In Dresden-Rähnitz wurde am 4. Juni 2002 der Grundstein für einen Werksneubau und das sogenannte „Advanced Mask Technology Center“ (AMTC) - ein Forschungszentrum der Halbleiterindustrie - gelegt. Der Komplex entsteht als Joint Venture Projekt der Advanced Micro Devices, Infineon Technologies AG und DuPont Photomasks. Geplant und realisiert wird der Neubau von den Stuttgarter Architekten HWP Planungsgesellschaft.

Mit dem AMTC soll in Dresden ein weltweit führendes Zentrum für die Entwicklung und Pilotproduktion von künftigen lithographischen Masken aufgebaut werden.
Der auf einem rund 55.000 Quadratmeter großen Grundstück im Dresdener Norden entstehende Neubau bietet ca. 8.500 Quadratmeter Nutzfläche und Raum für 370 Arbeitsplätze.
Die Anlage gliedert sich in drei Teile: Die Fertigungshalle, „FAB“ genannt, nimmt Technik- und Versorgungseinheiten des Werks auf. Die Halle muss dynamisch hohen Anforderungen entsprechen, dazu zählen eine schwingungfreie Lagerung, eine Entkoppelung in allen Bereichen und Reinraumqualität.
Das Verwaltungsgebäude umfasst neben Büros für 170 Mitarbeiter auch eine Kantine und Kundenbereiche. Komplettiert wird der Komplex durch ein Technikgebäude.
Die Fertigstellung ist für Mitte 2003 geplant.

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