In New York wurde am 21. März 2002 ein nicht-anonymer Wettbewerb für einen Museumsneubau des Eyebeam Atelier im West Chelsea District von Manhattan entschieden. Bereits im Juni letzten Jahres hatte eine Jury unter dreizehn eingeladenen Teilnehmern, die erste Konzepte eingereicht hatten, die Büros Diller+Scofidio (New York), Leeser Architecture (New York) und MVRDV (Rotterdam) als Finalisten ausgewählt (BauNetz-Meldung vom 27.06.2001).
Basierend auf ersten schematischen Entwürfen entschied sich die Jury für den Entwurf von Elizabeth Diller und Ricardo Scofidio. Ihr Entwurf verkörpere eine Art der architektonischen Problemlösung, deren Weltläufigkeit und Eleganz einfach beindruckend sei, erklärte der Direktor des Eyebeam John S. Johnson.

Als erstes Museum der Stadt wird das neue Haus den Themen Kunst, Technologie und Gestaltung neuer Medien gewidmet sein.
Neben den Ausstellungsräumen und Ateliers wird der rund 60 Millionen Dollar teure Neubau auch einen museumspädagogischen Dienst mit Multimedia-Klassenräumen, ein Restaurant und einen Museumsshop aufnehmen. Insgesamt sollen rund 8.400 Quadratmeter Nutzfläche entstehen.
Der Entwurf von Diller+Scofidio basiert auf dem Prinzip eines flexiblen Bandes, das durch seine Faltung jeweils die Bereiche „Produktion“ (Ateliers) und Präsentation (Ausstellungs- und Theaterbereiche) voneinander trennt. Mit jeder Biegung wird im Wechsel ein Produktions- oder Präsentationsbereich „aufgerollt“.
Mit den Bauarbeiten für das Projekt soll im Frühjahr 2004 begonnen werden.

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Weitere Informationen zum Wettbewerb finden Sie im Webauftritt des Eyebeam Atelier

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